薄膜的激光損傷與薄膜微缺陷有著密切的關(guān)系，微缺陷是薄膜產(chǎn)生激光損傷的重要誘因，大多數(shù)的激光損傷都是從薄膜中缺陷點處開始發(fā)生并逐漸向外發(fā)展的，因此高通量激光裝置的光學元件在系統(tǒng)高通量運行時，光學元件表面留有的雜質(zhì)污染物，形成雜質(zhì)缺陷或鍍膜后的節(jié)瘤缺陷，將導致高拋光度的玻璃或鍍膜表面損傷，降低光學元件的損傷閾值，另外光學元件表面殘留的有機污染物不僅產(chǎn)生有機吸收和熱透鏡等效應降低損傷閾值，也會降低光學元件膜層的附著力。因此，隨著神光－Ⅲ裝置更高通量的需求，要求光學元件有更高的激光損傷閾值，這就要求光學元件具有很高的潔凈度。

因此，光學元件在加工過程中和鍍膜前都需要潔凈清洗，保障元件表面高潔凈度，提高元件抗激光損傷能力。為了保證清洗方法在實踐加工中切實可行，而且保障清洗手段對光學元件有高效的潔凈能力又不損壞光學元件。近年來，國內(nèi)外已經(jīng)發(fā)展了諸多新清洗技術(shù)，如機械清洗技術(shù)、干冰清洗技術(shù)、激光清洗技術(shù)、超聲波和兆聲波清洗技術(shù)等，其中在光學元件的清洗領(lǐng)域，超聲波清洗技術(shù)作為一種高效、高潔凈度的清洗手段開始逐漸替代手工清洗。

超聲波清洗是在專用超聲波清洗機中進行的,超聲波清洗機的獨特優(yōu)點在于猶如精致的小刷,具有強勁的穿刺力,夾留于手不可觸及的小洞穴及孔角地方污物,在清洗液中,經(jīng)超聲振動所產(chǎn)生的空化作用而很快松動脫落。超聲波清洗是將工件懸放在盛有清洗液的清洗槽中,把超聲發(fā)生器發(fā)出的電信號,通過超聲換能器轉(zhuǎn)換成超聲振動并引入液體內(nèi),在超聲作用下使污垢脫落,達到清洗目的。

根據(jù)光學元件表面污染物的物理特性，可把污染物分為有機物、復合物污染和無機物污染。

超聲清洗效果與清洗液溫度及濃度、清洗頻率、超聲功率等工藝參數(shù)密切相關(guān)。超聲頻率與待清洗的污染物顆粒大小有直接的關(guān)系：超聲頻率越低，空化氣泡越大，清洗污染物顆粒越大，超聲頻率越高清洗污染物顆粒越小。

光學元件超聲清洗要求祛除大于１mm的無機污染物顆粒，必須采用大于170KHZ的頻率才能達到潔凈度要求。因此，選擇頻率為40，80，120，140，170，220，270KHz復頻的多槽（清洗槽、噴淋槽、漂洗槽、烘干槽）超聲波清洗機清洗光學元件。